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| 發(fā)布時間： |
2024/6/4 9:37:00 |
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無機異物分析是指針對產(chǎn)品表面的無機異物，根據(jù)異物的形態(tài)、檢測深度及檢測面積等差異而選用特定的儀器，對其無機成分進行分析，測定其中元素成分及含量，進而分析組成的一種分析方法。相較與有機異物，無機異物則表現(xiàn)出質(zhì)地更硬，色澤更深，且較不透光等特點。無機異物的分析手段主要有以下幾種：
分析手段 典型應(yīng)用 分析特點 參考標準
掃描電子顯微鏡&X射線能譜SEM/EDS 表面微觀形貌觀察；微米級尺寸量測；微區(qū)成分分析；污染物分析 能快速的對各種試樣的微區(qū)內(nèi)Be~U的大部分元素進行定性、定量分析，分析時間短 JY/T 010-1996
GB/T 17359-2012
飛行時間二次離子質(zhì)譜TOF-SIMS 有機材料和無機材料的表面微量分析；表面離子成像；深度剖面分析 優(yōu)異的摻雜劑和雜質(zhì)檢測靈敏度可以檢測到ppm或更低的濃度；深度剖析具有良好的檢測限制和深度辨析率；小面積分析 ASTM E1078-2009
ASTM E1504-2011
ASTM E1829-2009
動態(tài)二次離子質(zhì)譜D-SIMS 產(chǎn)品表面微小的異物分析；氧化膜厚度分析；摻雜元素的含量測定 分析區(qū)域小，能分析≥10μm直徑的異物成分；分析深度淺，可測量≥1nm樣品；檢出限高，一般是ppm-ppb級別 ASTM E1078-2009
ASTM E1504-2011
ASTM E1829-2009
俄歇電子能譜AES 缺陷分析；顆粒分析；深度剖面分析；薄膜成分分析 可以作表面微區(qū)的分析，并且可以從熒光屏上直接獲得俄歇元素像 GB/T 26533-2011
X射線光電子能譜XPS 有機材料、無機材料、污點、殘留物的表面分析；表面成分及化學狀態(tài)信息；深度剖面分析 分析層薄，分析元素廣，可以分析樣品表面1-12nm的元素和元素含量 GB/T 30704-2014
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產(chǎn)品名稱：無機異物分析 |
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